Министерство промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) объявило о разработке в стране оборудования, позволяющего производить чипы по 8-нанометровому техпроцессу. Это особенно важное достижение с учётом ужесточения санкций со стороны США.

В MIIT подчеркнули, что наличие основного технического оборудования позволяет достичь значительных технологических прорывов внутри страны, но пока специалисты не добились существенных рыночных показателей. В описании литографической машины указаны следующие характеристики:

- диаметр пластины — 300 мм;
- длина волны освещения — 248 нм;
- разрешение — ≤65 нм;
- точность наложения — ≤8 нм.

Так, с помощью оборудования можно производить чипы с 8-нанометровым или более точным техпроцессом. В отчёте MIIT говорится, что разработкой машины занималось несколько ведущих китайских производителей полупроводникового оборудования и научно-исследовательских институтов. В частности, в проекте принимали участие Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), а также Институт микроэлектроники Китайской академии наук.

Стоит отметить, что 5 сентября в США объявили об ужесточении экспортного контроля за машинами, необходимыми для производства современного полупроводникового оборудования. Аналогичное заявление сделали и голландские власти.